什么是電漿？等離子體（plasma）又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產生的正負離子組成的離子化氣體狀物質，尺度大于德拜長度的宏觀電中性電離氣體，其運動主要受電磁力支配，并表現(xiàn)出顯著的集體行為。它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質存在的第四態(tài)。那么氬氣電漿和氯氣電漿有什么區(qū)別呢？下面一起來看看吧。
一、氬氣電漿
利用氬氣微型電漿系統(tǒng)分解氣態(tài)二甲基硫，將其轉化為其它物質，再借由水洗塔或別的方式來減少二甲基硫的大氣排放量，以達到保護環(huán)境的作用。在實驗過程中研究人員以光學放射光譜儀及各式氣體分析儀檢測氬氣電漿、反應及生成氣體。研究發(fā)現(xiàn)經(jīng)過分解，二甲基硫會分解為C*、C2*、CN*、CO*和CH*等激發(fā)物種。激發(fā)態(tài)物種離開處理系統(tǒng)后會再度結合，形成其他穩(wěn)定的化合物或物種，而以固態(tài)顆粒和氣態(tài)相兩種形式存在。在氣態(tài)相方面，分子量小的物種具活性，可能再結合成具較高熱力學穩(wěn)定性物種，如：H2S、CS2、CO和H2等氣體物種。并且隨著處理時間的延長，S2及H2的濃度則因為H2S的分解而增加。在分解產物方面，我們可以利用NaOH溶液將H2S從氣態(tài)產物中分離，再利用活性碳將CS2收集，排出的氫氣可做為能源的再生利用。
二、氯氣電漿
相同壓力下，隨著輸入功率的上升氯分子濃度會下降，氯原子及氯離子濃度會上升，由于輸入功率越高，電子密度越高，氯分子解離率與游離率也越高。相同功率下，隨著壓力的上升氯分子及氯原子濃度會上升，氯離子濃度會下降，因為壓力上升粒子的平均自由路徑會縮短，導致電子溫度的下降，而且負電性氣體Cl2容易與電子發(fā)生碰撞產生負離子（Cl-）會消耗電子，使得電子密度下降，使得氯分子游離率降低。相同壓力與輸入功率下，越靠近腔體中心氯分子濃度越低，氯離子濃度越高，因為越靠近腔體中心電子密度與電子溫度越高，氯分子游離率越高。當蝕刻制程中偏壓功率開啟時，氯原子及氯離子濃度會瞬間下降，氯分子濃度會上升，且隨著越靠近晶圓表面處氯原子與氯離子濃度越低，越往腔壁處濃度越高，因為氯原子會與晶圓表面的硅產生化學反應產生SiClx，氯離子會濺擊以及離子驅策蝕刻晶圓表面，導致氯原子及氯離子的消耗，使得濃度下降，當偏壓關閉時，氯原子及氯離子濃度則會瞬間上升，氯分子濃度則會下降，另外由于氯離子Cl2+與Cl-會于靠近腔體表面處產生再結合的效應，所以蝕刻過后越靠近腔壁處氯分子與原子濃度會變的較高。
以上就是對氬氣和氯氣電漿相關事項的介紹。氬氣與氯氣，一個有毒，一個無毒，形成電漿的過程不同，作為電漿的應用也截然不同。
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